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離線型真空等離子清洗機(jī) VPC42
| 型 號(hào)： | |
| 電路板面積： | (mm) |
| 理論速度： | (cph) |
| 重復(fù)精度： | (mm) |
| 喂料器數(shù)量： | |
| 可貼元器件： |
訂購(gòu)熱線：400-998-9522
詳細(xì)介紹
一、設(shè)備名稱、型號(hào)、原產(chǎn)地、交貨期
1.1 設(shè)備名稱：真空等離子清洗機(jī)
1.2 型號(hào)：VPC42
1.3 原產(chǎn)地(國(guó)別、廠家)：北京中科中科同志股份有限公司
1.4 交貨期：合同生效后4-8周
1.5 主要用于硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架、大尺寸單面基板電源板、IGBT模塊、帶治具的MEMS傳感器、微波器件、濾波器、射頻器件等半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝。
二、設(shè)備主要技術(shù)性能指標(biāo)：
2.1 真空腔體體積：42L
2.2 真空度：VPC42真空等離子清洗機(jī)最高真空度小于2 Pa（機(jī)械干泵 40L/Min）
2.3 有效清洗面積：
單個(gè)承片臺(tái)面積：350*350mm
15層：間隔15mm:40KHZ 2KW 中頻（表面處理）
5層：間隔50mm，13.56MHZ 300W 射頻（體積處理，帶水冷）
2.4 真空腔室高度：
爐膛高度350mm（有效尺寸）
2.5 清洗溫度：
低溫清洗（低于室溫）。
2.6 清洗節(jié)拍:30-120S
2.7 清洗效果:達(dá)因值可達(dá)到70.水滴角15度，最優(yōu)可控制到10以內(nèi)（百級(jí)無(wú)塵4小時(shí)以內(nèi)）
2.8 氣體環(huán)境：
氬氣、氮?dú)狻⒀鯕�、氮�(dú)浠旌蠚怏w、氫氣、四氟化碳都支持。
2.9 VPC42真空等離子清洗機(jī)配置軟件控制系統(tǒng)：
軟件控制系統(tǒng)，操作簡(jiǎn)單，能接控制設(shè)備及設(shè)定各種清洗工藝曲線，并根據(jù)工藝不同進(jìn)行設(shè)定、修改、存儲(chǔ)、調(diào)用；軟件自帶分析功能，能對(duì)工藝曲線進(jìn)行分析。軟件控制系統(tǒng)自動(dòng)的實(shí)時(shí)記錄清洗工藝參數(shù)及溫度曲線、時(shí)間、報(bào)警相關(guān)數(shù)據(jù)，保證產(chǎn)品清洗工藝的可追溯性。
2.10 設(shè)備無(wú)需校正，不會(huì)產(chǎn)生多余的校證費(fèi)用
2.11 操作功耗：2.5KW，不含冷水機(jī)功耗(中頻)； 1.5KW，不含冷水機(jī)功耗(射頻)
2.12 具有超溫報(bào)警及記錄功能。（標(biāo)配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有清洗過(guò)程工件表面超溫保護(hù)及報(bào)警功能、整機(jī)溫度安全保護(hù)功能及記錄功能。
2.13 具有氮?dú)狻?/strong>氬氣等流量管理及分析系統(tǒng)（軟件+硬件）。（選配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)消耗氮?dú)狻鍤獾裙に嚉怏w的實(shí)時(shí)管理及分析功能，可以實(shí)時(shí)分析氣體使用量、日使用量、周使用量、時(shí)間段使用量等記錄和分析功能。
2.14 具有工藝氣體壓力報(bào)警功能和分析系統(tǒng)（軟件+硬件）。（選配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)生產(chǎn)過(guò)程中工藝氣體氣源欠壓報(bào)警及記錄和分析功能，對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量追溯超有用。
2.15 具有能源管理及分析系統(tǒng)（軟件+硬件）。（選配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有能源消耗實(shí)時(shí)管理及分析功能，可以分析實(shí)時(shí)耗電量、日耗電量、周耗電量、時(shí)間段耗電量等記錄和分析功能。
2.16 具有產(chǎn)量統(tǒng)計(jì)管理及分析系統(tǒng)（軟件+硬件）。（選配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)真空處理產(chǎn)品產(chǎn)量實(shí)時(shí)管理及分析功能，可以實(shí)時(shí)班產(chǎn)量、日產(chǎn)量、周產(chǎn)量、月產(chǎn)量登并記錄和分析，用于產(chǎn)品質(zhì)量追溯和分析。
2.17 具有MES數(shù)據(jù)接口子系統(tǒng)（軟件+硬件）。（選配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)MES數(shù)據(jù)接口功能，可以選配并配置MES系統(tǒng)，完成智能設(shè)備的各種數(shù)據(jù)采集及分析。
2.18 設(shè)備外形尺寸：
850*960*1680mm（不包括警燈）
2.19 設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)：見(jiàn)下圖
三、設(shè)備基本構(gòu)成和配置：
四、VPC42技術(shù)參數(shù)表
1.1 設(shè)備名稱：真空等離子清洗機(jī)
1.2 型號(hào)：VPC42
1.3 原產(chǎn)地(國(guó)別、廠家)：北京中科中科同志股份有限公司
1.4 交貨期：合同生效后4-8周
1.5 主要用于硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架、大尺寸單面基板電源板、IGBT模塊、帶治具的MEMS傳感器、微波器件、濾波器、射頻器件等半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝。
二、設(shè)備主要技術(shù)性能指標(biāo)：
2.1 真空腔體體積：42L
2.2 真空度：VPC42真空等離子清洗機(jī)最高真空度小于2 Pa（機(jī)械干泵 40L/Min）
2.3 有效清洗面積：
單個(gè)承片臺(tái)面積：350*350mm
15層：間隔15mm:40KHZ 2KW 中頻（表面處理）
5層：間隔50mm，13.56MHZ 300W 射頻（體積處理，帶水冷）
2.4 真空腔室高度：
爐膛高度350mm（有效尺寸）
2.5 清洗溫度：
低溫清洗（低于室溫）。
2.6 清洗節(jié)拍:30-120S
2.7 清洗效果:達(dá)因值可達(dá)到70.水滴角15度，最優(yōu)可控制到10以內(nèi)（百級(jí)無(wú)塵4小時(shí)以內(nèi)）
2.8 氣體環(huán)境：
氬氣、氮?dú)狻⒀鯕�、氮�(dú)浠旌蠚怏w、氫氣、四氟化碳都支持。
2.9 VPC42真空等離子清洗機(jī)配置軟件控制系統(tǒng)：
軟件控制系統(tǒng)，操作簡(jiǎn)單，能接控制設(shè)備及設(shè)定各種清洗工藝曲線，并根據(jù)工藝不同進(jìn)行設(shè)定、修改、存儲(chǔ)、調(diào)用；軟件自帶分析功能，能對(duì)工藝曲線進(jìn)行分析。軟件控制系統(tǒng)自動(dòng)的實(shí)時(shí)記錄清洗工藝參數(shù)及溫度曲線、時(shí)間、報(bào)警相關(guān)數(shù)據(jù)，保證產(chǎn)品清洗工藝的可追溯性。
2.10 設(shè)備無(wú)需校正，不會(huì)產(chǎn)生多余的校證費(fèi)用
2.11 操作功耗：2.5KW，不含冷水機(jī)功耗(中頻)； 1.5KW，不含冷水機(jī)功耗(射頻)
2.12 具有超溫報(bào)警及記錄功能。（標(biāo)配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有清洗過(guò)程工件表面超溫保護(hù)及報(bào)警功能、整機(jī)溫度安全保護(hù)功能及記錄功能。
2.13 具有氮?dú)狻?/strong>氬氣等流量管理及分析系統(tǒng)（軟件+硬件）。（選配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)消耗氮?dú)狻鍤獾裙に嚉怏w的實(shí)時(shí)管理及分析功能，可以實(shí)時(shí)分析氣體使用量、日使用量、周使用量、時(shí)間段使用量等記錄和分析功能。
2.14 具有工藝氣體壓力報(bào)警功能和分析系統(tǒng)（軟件+硬件）。（選配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)生產(chǎn)過(guò)程中工藝氣體氣源欠壓報(bào)警及記錄和分析功能，對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量追溯超有用。
2.15 具有能源管理及分析系統(tǒng)（軟件+硬件）。（選配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有能源消耗實(shí)時(shí)管理及分析功能，可以分析實(shí)時(shí)耗電量、日耗電量、周耗電量、時(shí)間段耗電量等記錄和分析功能。
2.16 具有產(chǎn)量統(tǒng)計(jì)管理及分析系統(tǒng)（軟件+硬件）。（選配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)真空處理產(chǎn)品產(chǎn)量實(shí)時(shí)管理及分析功能，可以實(shí)時(shí)班產(chǎn)量、日產(chǎn)量、周產(chǎn)量、月產(chǎn)量登并記錄和分析，用于產(chǎn)品質(zhì)量追溯和分析。
2.17 具有MES數(shù)據(jù)接口子系統(tǒng)（軟件+硬件）。（選配）
VPC42型真空等離子清洗機(jī)具有整機(jī)MES數(shù)據(jù)接口功能，可以選配并配置MES系統(tǒng)，完成智能設(shè)備的各種數(shù)據(jù)采集及分析。
2.18 設(shè)備外形尺寸：
850*960*1680mm（不包括警燈）
2.19 設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)：見(jiàn)下圖
三、設(shè)備基本構(gòu)成和配置：
| 編號(hào) | 名稱 | 配置 | 數(shù)量 |
| 1 | 真空等離子清洗機(jī) | 主機(jī) | 1臺(tái) |
| 2 | 等離子體電源系統(tǒng) | 標(biāo)配 | 1套 |
| 3 | 測(cè)溫系統(tǒng) | 標(biāo)配（2組測(cè)溫?zé)犭娕?一用一備） | 1套 |
| 4 | 真空系統(tǒng) | 標(biāo)配 | 1套 |
| 5 | 機(jī)械泵 | 標(biāo)配 | 1套 |
| 6 | 水冷系統(tǒng) | 標(biāo)配（不含工業(yè)水冷機(jī)） | 1套 |
| 7 | 工業(yè)冷水機(jī) | 選配 | 1套 |
| 8 | 工藝氣體系統(tǒng) | 標(biāo)配(工藝氣路管道及接口） | 1套 |
| 9 | 氮?dú)鈿夥毡Ｗo(hù)系統(tǒng) | 標(biāo)配（不包括氮?dú)鈿庠垂⿷?yīng)） | 1套 |
| 10 | 真空等離子清洗機(jī)軟件系統(tǒng) | 標(biāo)配(控制軟件) | 1套 |
| 11 | 工業(yè)計(jì)算機(jī) | 標(biāo)配 | 1套 |
| 12 | 等離子體 | 標(biāo)配 | 1支 |
| 13 | 測(cè)溫傳感器（備件） | 標(biāo)配 | 2根 |
| 14 | 冷卻氣管（備件） | 標(biāo)配 | 2根 |
| 15 | 工藝氣體流量管理及分析系統(tǒng) | 選配 | 1套 |
| 16 | 工藝氣體壓力報(bào)警功能和分析系統(tǒng) | 選配 | 1套 |
| 17 | 能源管理及分析系統(tǒng) | 選配 | 1套 |
| 18 | 氧含量管理及分析系統(tǒng) | 選配 | 1套 |
| 19 | MES數(shù)據(jù)接口系統(tǒng) | 選配 |
四、VPC42技術(shù)參數(shù)表
| 品 牌 | 設(shè)備廠商 | 北京中科中科同志股份有限公司 TORCH | 備注 |
| 簡(jiǎn) 介 | 產(chǎn) 地 | 北 京 | |
| 關(guān)鍵配件 | 溫度傳感器 | 美國(guó)歐米伽 | |
| 真空泵 | 科儀/鮑絲 | ||
| 截止閥 | 日本進(jìn)口 | ||
| 耐蝕閥 | 日本進(jìn)口 | ||
| 低壓電器 | 法國(guó)施耐德 | ||
| 按鈕開(kāi)關(guān) | 臺(tái)灣久晨/法國(guó)施耐德 | ||
| 磁性接近傳感器 | 日本歐姆龍 | ||
| 加熱器 | TORCH | ||
| 關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo) | 溫度參數(shù) | 低溫清洗，保持在室溫清洗 | |
| 最低真空度 | 5pa | ||
| 氧含量 | <1ppm | ||
| 生產(chǎn)效率 | 20-120S | ||
| 工藝關(guān)鍵指標(biāo) | 質(zhì)量追溯 | 1、工藝氣體壓力報(bào)警記錄。2、氧含量報(bào)警記錄。3、溫度超溫報(bào)警記錄。4、真空值不達(dá)標(biāo)報(bào)警記錄 | |
| 設(shè)備智能化信息化 | 1、設(shè)備具備智能化功能，以上四項(xiàng)指標(biāo)有一項(xiàng)不達(dá)標(biāo)或者報(bào)警，設(shè)備就整體報(bào)警，并提示停止生產(chǎn)。確保產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量。2、設(shè)備具備能源管理系統(tǒng)，耗電量和消耗氮?dú)獾牧�，在能源管理系統(tǒng)實(shí)時(shí)統(tǒng)計(jì)并顯示。3、以上所有信息都可以通過(guò)設(shè)備數(shù)據(jù)接口無(wú)縫對(duì)接MES系統(tǒng)，方便管理人員決策管理。 | ||
| 廠務(wù)條件 | 電 | 380VAC，20A | |
| 氣 | 壓縮空氣（CDA）0.5Mpa | ||
| 氮?dú)?/span> | 0.5Mpa | ||
| 真空 | 設(shè)備配置真干泵 |
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